名 称:铬
符 号:Cr
原子量:51.9961
熔 点:1907℃
沸 点:2671℃
密 度:7.19g/cm3
高纯铬靶经磁控溅射为基体镀膜具有**、抗腐蚀、生物兼容性好、溅射覆着力强、导热导电性能优越等特点,可广泛用于半导体、芯片、精密电子产品、显示屏以及光学材料镀膜。
我公司可提供脱氧脱气高纯铬粉,并且经过热等静压及机械加工成块状、片状、棒状等各种铬靶,具有纯度高、密度高、组织结构优良、使用寿命长四大特点。
高纯铬 Cr 2N5 3N5 靶材 根据要求定制
高纯铬 Cr 3N5 4N 粉末 -200目
高纯铬 Cr 3N5 4N 片状 不规则片状
高纯铬 Cr 3N5颗粒 3-5mm
我公司可提供铬合金如铝铬合金,钴铬钨合金等。还可以提供氧化铬粉末,蒸发膜料及靶材合金及化合物
铬铝合金 AlCr 3N 靶材 颗粒
铝铬钇合金 AlCrY 3N 靶材
钴铬钨合金 CoCrW 3N 靶材
氧化铬 Cr2O3 4N 靶材 颗粒 粉末
名 称:锰
符 号:Mn
原子量:54.94
熔 点:1246℃
沸 点:2095℃
密 度:7.3g/cm3
高纯锰是一种灰白色,硬脆,有光泽的金属。锰在磁性材料,高纯铁,电池材料及其他金属材料以及相关领域有比较广泛的应用。
高纯锰 Mn 3N 靶材
高纯锰 Mn 3N 4N 电解锰片 1-10mm 不规则片状
高纯锰 Mn 3N 3N5 粉末-200目
我公司可提供铁锰合金等,用于磁学等方面。
铁锰合金 FeMn 3N-3N5 靶材
锰锌碳合金 MnZnC 3N-3N5 靶材
二氧化锰 MnO2 3N 靶材 粉末 颗粒
名 称:钛
符 号:Ti
原子量:47.88
熔 点:1668℃
沸 点:3277℃
密 度:4.506g/cm3
高纯钛是指纯度在4N以上的金属钛,主要制备方法有:碘化法,熔盐电解法,电子束熔炼法,电子束区熔法等。
高纯钛主要用于半导体材料,溅射靶材,合金材料及**高真空装置中的吸气材料。
我公司可提供4N5,5N高纯钛,采用美国进口原料。主要用于生产高纯度溅射靶材和金属颗粒,高纯铁颗粒厂家****,用于高纯度合金熔炼,蒸发镀膜等领域。
高纯钛靶材 高纯钛粉末 高纯钛颗粒 高纯钛棒状 高纯钛丝状 高纯钛片状
我们可提供钛氧化物,氮化物及其他化合物靶材,高纯铁颗粒Fe99.95%,粉末等。
溅射靶材:二氧化钛靶材,氮化钛靶材,钛酸锶晶体靶材,钛酸钡靶材等
光学镀膜材料:二氧化钛颗粒,五氧化三钛晶体颗粒等化合物及合金氧化钛TiO2
氮化钛TiN 硼化钛TiB2 钛酸锶SrTiO3 钛酸钡BaTiO3 钛铝合金Ti-Al 钛硅合金 钛钨合金