生产加工高纯铂颗粒-铂块-高纯铂-宏钜金属

名 称：钽

符 号：Ta

原子量：180.95

熔 点：2996℃

沸 点：5429℃  

密 度：16.69g/cm3

钽为黑灰色金属，有耐腐蚀性和耐高温性。钽可以主要应用于电容器零件、光学和半导体用靶材、人造金刚石制备、合金添加剂等用途。

高纯钽靶  Ta3N5 4N

高纯钽粉末  -325目

高纯钽片  3N5片状

钽舟0.1-3mm  

高纯钽丝状  0.1-5

高纯钽棒材

钽的化合物常见的有氧化钽，高**属高纯铂粒价格，主要形态有靶材，颗粒，用于磁控溅射和光学薄膜方面，还可以提供钽钨合金，钽铌合金等有着良好的抗腐蚀和加工性能

名  称：铋

符  号：Bi

原子量：208.98

熔  点：271.4℃

沸  点：1564℃                      

密  度：9.79g/cm3

   高纯铋是指纯度为4N及以上的金属铋，主要规格是5N和6N。高纯铋呈银白色略带玫瑰红，有金属光泽，性脆易碎，无延展性，具有良好的热电敏性。主要用于制备化合物半导体，生产加工高纯铂颗粒-铂块，高纯合金，电子制冷元件，热电转换元件及原子反应堆中的液态冷却载体等

高纯铋  Bi  5N 6N  锭状  根据要求定制  

高纯铋  Bi  4N  靶材  根据要求定制  

高纯铋  Bi  5N 6N  粉末  -60目  

高纯铋  Bi  5N 6N  颗粒1-6mm

高纯铋  Bi  4N  片状  1.0-6.0mm

高纯铋化合物在半导体行业有着非常重要的应用，我们可以提供氧化铋，硒化铋，硫化铋，碲化铋等高纯度化合物合金及化合物氧化铋  Bi2O3  5N  

硒化铋  Bi2Se3  5N  粉末 颗粒 靶材

硫化铋  Bi2S3  5N  粉末 颗粒 靶材

碲化铋  Bi2Te3  5N粉末 颗粒 靶材

铁酸铋  BiFeO3  4N  靶材

高纯铝，**高纯铝的优点：

1，不纯物元素含量较低

2， Pt蒸发颗粒 定制高纯铂颗粒，导电性能好，光反射性能好

3，延展性，耐腐蚀性能优良

4，放（fang）射性元素含量低Th，U<5ppm

我们主要是通过控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，用于高纯铝，**高纯铝的提纯。并通过先进的加工工艺，为您提供靶材，高纯铂，颗粒，丝，片等多种形态的产品。名称符号纯度状态规格高纯铝

高纯铝 Al  5N 5N5  靶材  根据要求定制

高纯铝 Al  2N7-3N  粉末   1um-40目

高纯铝 Al  5N 5N5 6N  棒状  φ3*3mm 6*6mm 可定制

高纯铝 Al  5N 5N5  丝状  φ0.1-5mm

高纯铝 Al  5N 5N5片状  0.03-10mm  

我们可提供高纯氧化铝，氮化铝等化合物材料：

光学镀膜材料：氧化铝颗粒，氮化铝颗粒

溅射靶材：氧化铝靶材，氮化铝靶材

另外我公司可以供各种粉末冶金制备的铝合金靶材。钛铝合金，铝硅合金，铝铬钇合金  铝硅铜合金等